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하드웨어 산업에서의 PVD 및 CVD 적용

PVD(물리 기상 증착): 물리적 방법(증발, 스퍼터링 등)을 사용하여 기판 표면의 코팅 재료를 기화시켜 피복층에 증착합니다.물리적 프로세스를 사용하여 물질 전달을 실현하고 원자 또는 분자를 소스에서 기판 표면으로 전달하는 프로세스입니다.그 기능은 성능이 낮은 매트릭스에 특별한 특성(고강도, 내마모성, 방열, 내식성 등)을 가진 일부 입자를 분사하여 매트릭스가 더 나은 성능을 갖도록 하는 것입니다.

CVD(화학 기상 증착): 매트릭스 재료 표면에서 가스를 화학적으로 반응시켜 피복층을 형성하는 방법.반응성 물질이 기체 상태에서 화학적으로 반응하여 고체 물질을 생성하고, 이를 가열된 고체 매트릭스 표면에 침착시킨 후 고체 물질을 제조하는 공정 기술입니다.본질적으로 원자 범주의 기체 물질 전달 과정에 속합니다.

CVD 또는 PVD도 니켈 도금, 금 도금 및 아연 도금과 같은 코팅 방법입니다. 코팅의 기능은 내마모성과 내식성을 높이는 것입니다.

PVD와 CVD의 차이점:

PVD는 CVD보다 얇으며 CVD의 코팅 두께는 10~20μm입니다.PVD의 코팅 두께는 3~5μM 정도에 불과하다.PVD의 처리 온도는 약 500℃인 반면 CVD 가열로의 온도는 800~1000℃입니다.고온으로 인해 CVD는 처리된 재료에 대한 고온 저항 요구 사항을 가지고 있음을 알 수 있습니다.

CVD는 현재 더 나은 환경 친화적이고 내마모성 코팅 방법입니다.그것은 시계 및 시계 산업, 하드웨어 산업, 자동차 산업, 케이터링 산업 등과 같은 많은 분야에서 사용될 수 있습니다.

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게시 시간: 2022년 4월 12일